最大限度提高STT-MRAM IP的制造產(chǎn)量
來(lái)源:宇芯有限公司 日期:2020-08-04 10:07:51
Everspin公司在磁存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)制造和交付到相關(guān)應(yīng)用中的知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)在半導(dǎo)體行業(yè)中是獨(dú)一無(wú)二的。Everspin擁有超過(guò)600多項(xiàng)有效專(zhuān)利和申請(qǐng)的知識(shí)產(chǎn)權(quán),在平面和垂直磁隧道結(jié)(MTJ)
STT-MRAM位單元的開(kāi)發(fā)方面均處于市場(chǎng)領(lǐng)先地位。本篇文章
everspin代理宇芯電子要介紹的是如何最大限度提高STT-MRAM IP的制造產(chǎn)量。
鑄造廠需要傳統(tǒng)的CMOS制造中不使用的新設(shè)備,例如離子束蝕刻,同時(shí)提高M(jìn)TJ位單元的可靠性,以支持某些應(yīng)用所需的大(1Mbit?256Mbit)存儲(chǔ)器陣列密度。
盡管STT-MRAM技術(shù)具有足夠的耐久性和讀/寫(xiě)等待時(shí)間,但對(duì)工藝變化的敏感性可能會(huì)導(dǎo)致可靠性問(wèn)題。MTJ位單元的缺點(diǎn)之一是讀取窗口小,即高阻狀態(tài)和低阻狀態(tài)之間的差異通常僅為2-3倍。結(jié)果感測(cè)MTJ位單元的值比
sram位單元困難得多。
STT切換是一個(gè)隨機(jī)過(guò)程。這意味著減少寫(xiě)電流可提高能效,但會(huì)增加寫(xiě)錯(cuò)誤的可能性,并降低良率。為了達(dá)到可接受的良率并保持現(xiàn)場(chǎng)可靠性,設(shè)計(jì)人員需要實(shí)施復(fù)雜的ECC解決方案。僅依靠冗余元素(例如額外的行或列)會(huì)導(dǎo)致較高的面積開(kāi)銷(xiāo),并降低MRAM的密度優(yōu)勢(shì)。因此與傳統(tǒng)的CMOS存儲(chǔ)器技術(shù)不同,ECC和冗余機(jī)制的組合是克服MRAM的獨(dú)特隨機(jī)性和工藝變化相關(guān)制造挑戰(zhàn)的最佳方法。
ECC數(shù)學(xué)表明,要達(dá)到一定的芯片故障率(CFR),代工廠必須達(dá)到的存儲(chǔ)器位故障率(BFR)在更大的陣列尺寸下變得越來(lái)越嚴(yán)格。假設(shè)對(duì)于64Mb存儲(chǔ)器陣列大小存在隨機(jī)缺陷,針對(duì)最嚴(yán)格的汽車(chē)ASIL-D級(jí)別(相當(dāng)于SoC級(jí)別FIT率為10)的應(yīng)用程序至少需要DECTED(雙錯(cuò)誤糾正,三錯(cuò)誤檢測(cè))級(jí)別的ECC,如今,MTJ位單元的代工廠所能達(dá)到的BFR水平。雖然ECC方案可以更加寬松(例如SECDED-單錯(cuò)誤糾正,雙錯(cuò)誤檢測(cè))以用于消費(fèi)類(lèi)應(yīng)用和/或較小的陣列尺寸,但是較大的陣列尺寸將需要更加復(fù)雜的ECC機(jī)制來(lái)滿足可接受的有缺陷零件的總體水平最終用戶的每百萬(wàn)(DPPM)。
可糾正錯(cuò)誤的類(lèi)型/ ECC方案 |
封存 |
決定 |
一個(gè)軟錯(cuò)誤或一個(gè)硬錯(cuò)誤 |
是 |
是 |
兩個(gè)硬錯(cuò)誤 |
沒(méi)有 |
是 |
一個(gè)軟錯(cuò)誤和一個(gè)硬錯(cuò)誤 |
沒(méi)有 |
是 |
兩個(gè)軟錯(cuò)誤 |
沒(méi)有 |
是 |
表1:ECC方案比較
為了最大程度地提高制造良率,存儲(chǔ)器BIST解決方案必須在存儲(chǔ)器陣列中利用額外的冗余元件,并提供復(fù)雜的ECC解決方案(支持DECTED)以保護(hù)芯片上更大的
MRAM。
關(guān)鍵詞:MRAM STT-MRAM
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